本发明涉及一种可见光插层光催化材料及其制备方法。所述的光催化材料由具有层状结构的钙钛矿氧化物，作为插层物的纳米级的金属氧化物或离子簇及式(1)所示染料组成，其中染料、纳米级的金属氧化物或离子簇与钙钛矿氧化物的质量比为(0.05～2.0)∶(0.2～10)∶100。所述的光催化材料首先由纳米级的金属氧化物或离子簇对具有层状结构的过渡金属的钙钛矿氧化物进行“插入”，然后经式(1)所示染料改性获得。本发明所述的可见光插层光催化材料具有结构稳定性好、比表面大、吸附能力强及可见光活性高等优点，避免了目前作为可见光插层光催化剂的硫化物插层材料所面临的光腐蚀问题。

申请号­	CN200510111248
申请日	2005.12.08
公开（公告）号­	CN1775345A
公开（公告）日	2006.05.24
IPC分类号	B01J21/00; B01J37/30; B01J31/22; B01J23/00
申请（专利权）人	华东理工大学;
发明人	陈锋;邓志刚;李晓佩;张金龙;
优先权号
优先权日
申请人地址	上海市徐汇区梅陇路130号;
申请人邮编	200237
CPC分类号